Czasopismo | ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA | Rocznik 2013 - zeszyt 6

KFM calibration method

nr katalogowy: 77242

Nanometrology approaching the sphere of quantum mechanics has a lot of limits connected with indirect definition of base. Also necessity of creating of new measurement procedures appears, because current rules of defining the measurement uncertainty cannot be exploited without modification. In Kelvin Probe Force Microscope (KFM), working in Single-Pass mode, the topography and also surface potential are acquired using a multi-frequency technique. The cantilever is excited simultaneously with two AC modulation signals at different frequencies; the first one is used for mechanical excitation to measure topography and the second one (usually with a much lower frequency), is for electric modulation to measure surface potential. The obtained KFM image reveals important information about surface. It can be used to detect dopant concentration in semiconductor materials [2], band bending, molecular dipole orientation in organic thin films, etc. The principle of KFM is based on the measurement of electrostatic force between the sample surface and the cantilever tip (Fig. 1).When a DC bias (VDC) and a small AC modulation signal VAC sinůt are applied (between tip and sample), the non-uniform carrier distribution occurs in the system leading to the increase of so-called contact potential difference (VCP D) and the induced capacitance force is: F(z) = FDC + Fů + F2ů (1) The total voltage is therefore equal to: (2) where: (3) (4) (5) and C - is a total tip-sample capacitance, z - distance between tip and sample. It is evident from the Fů term in Eq. 1 that Fů depends linearly on VDC and becomes zero when VDC = VCP D. It seems that surfacepotential can be measured directly by nullifying the resonance frequency shift, caused by the AC modulation (FM-KFM). But careful examination of the signal reveals, however that the force never actually reaches zero, instead it reaches a certain minimum value at the bias close to contact potential diff[...]

Jeśli masz wykupiony/przyznany dostęp - zaloguj się. Skorzystaj z naszych propozycji zakupu!

Publikacja


e-Publikacja (format pdf) - nr 77242 "KFM calibration method..." licencja: Osobista Produkt cyfrowy	10.00 zł

Zeszyt


ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA - e-zeszyt (pdf) 2013-6 licencja: Osobista Produkt cyfrowy	35.00 zł

Prenumerata

ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA - prenumerata cyfrowa
licencja: Osobista

Produkt cyfrowy
Nowość

420.00 zł

ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA - papierowa prenumerata roczna + wysyłka
licencja: Osobista

Szczegóły pakietu

Nazwa
ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA - papierowa prenumerata roczna	528.00 zł brutto 488.89 zł netto 39.11 zł VAT (stawka VAT 8%)
ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA - pakowanie i wysyłka	42.00 zł brutto 34.15 zł netto 7.85 zł VAT (stawka VAT 23%)

570.00 zł

ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA - PAKIET prenumerata PLUS
licencja: Osobista

Szczegóły pakietu

Nazwa
ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA - PAKIET prenumerata PLUS (Prenumerata papierowa + dostęp do portalu sigma-not.pl + e-prenumerata)	636.00 zł brutto 588.89 zł netto 47.11 zł VAT (stawka VAT 8%)

636.00 zł

Zeszyt

2013-6

Twój Koszyk

Publikacja

Zeszyt

Prenumerata

Zeszyt

Czasopisma