Czasopismo | ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA | Rocznik 2011 - zeszyt 6

Graphene production for electrical metrology

nr katalogowy: 60598

Since 1990 the representation of the unit of electrical resistance has been based on the integer-quantized resistance plateaus of the QHE occurring in two-dimensional electronic states. These quantized values of resistance are RH(i ) = RK-90/i, where RH is the quantized Hall plateau resistance, RK-90 is the 1990 recommended value of the von Klitzing constant, and i is an integer quantum number [1]. In the first years after the discovery of the QHE in 1980, Si-MOSFETs and semiconductor heterostructures (most usually of GaAs/AlxGa(1-x) As) were used for metrological characterization and comparison [2-4], and more recently several National Metrology Institutes have developed and refined recipes for growing semiconductor QHE devices suitable for precise resistance metrology at relatively high currents and weak magnetic fields [5, 6] so that the standard is more readily accessible and metrologically useful. It is not a simple process to produce devices that are well-quantized on the i = 2 plateau for relatively low magnetic flux (B < 9 T), while operating at source-drain (S-D) currents of 20 μA to 100 μA and at temperatures T ≥ 1.4 K. This requires difficult-to-reproduce material composition in GaAs/AlxGa(1-x) As heterostructures such that the electron mobility is intentionally lowered by impurities to increase the plateau width while a relatively high carrier concentration is maintained [1]. In addition, metallic contacts must be diffused into the device layers of heterostructures, and it is often difficult to obtain multiple, highly conductive contacts using modern lithographic techniques. Since the discovery of graphene using the micromechanical cleavage technique [7], several other relatively simple methods have been developed to produce carbon-based 2DEG (two dimensional electron gas) devices which exhibit QHE plateaus. Some of the most significant features for fundamental physics occur due to the unique elec[...]

Jeśli masz wykupiony/przyznany dostęp - zaloguj się. Skorzystaj z naszych propozycji zakupu!

Publikacja


e-Publikacja (format pdf) - nr 60598 "Graphene production for e..." licencja: Osobista Produkt cyfrowy	10.00 zł

Zeszyt


ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA - e-zeszyt (pdf) 2011-6 licencja: Osobista Produkt cyfrowy	35.00 zł

Prenumerata

ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA - prenumerata cyfrowa
licencja: Osobista

Produkt cyfrowy
Nowość

420.00 zł

ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA - papierowa prenumerata roczna + wysyłka
licencja: Osobista

Szczegóły pakietu

Nazwa
ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA - papierowa prenumerata roczna	528.00 zł brutto 488.89 zł netto 39.11 zł VAT (stawka VAT 8%)
ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA - pakowanie i wysyłka	42.00 zł brutto 34.15 zł netto 7.85 zł VAT (stawka VAT 23%)

570.00 zł

ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA - PAKIET prenumerata PLUS
licencja: Osobista

Szczegóły pakietu

Nazwa
ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA - PAKIET prenumerata PLUS (Prenumerata papierowa + dostęp do portalu sigma-not.pl + e-prenumerata)	636.00 zł brutto 588.89 zł netto 47.11 zł VAT (stawka VAT 8%)

636.00 zł

Zeszyt

2011-6

Twój Koszyk

Publikacja

Zeszyt

Prenumerata

Zeszyt

Czasopisma