Czasopismo | PRZEGLĄD ELEKTROTECHNICZNY | Rocznik 2018 - zeszyt 7

Termodesorpcja ksenonu implantowanego do krzemu

(Thermal desorption of xenon implanted into silicon

10.15199/48.2018.07.40

nr katalogowy: 114680
10.15199/48.2018.07.40

Streszczenie

Artykuł prezentuje wyniki badań termodesorpcji Xe zaimplantowanego do krzemu (energie 80 keV, 100 keV oraz 150 keV). Zaobserwowano gwałtowne emisje Xe w temperaturach od 1060 K do ~1600 K, pochodzące najprawdopodobniej od uwalniania gazu zgromadzonego w aglomeratach we wnękach w matrycy Si. Oszacowano wartości energii aktywacji desorpcji – jest ona rzędu 3 do 3,4 eV w rozpatrywanym zakresie energii implantacji, a więc jest większa niż dla badanych wcześniej lżejszych gazów szlachetnych w matrycy Si.

Abstract

Studies of the thermal desorption of Xe implanted into Si (wih energies 80 keV, 100 keV and 150 keV) are presented Sudden Xe emission at temperatures ranging from 1060 K up to ~1600 K, probably due to releases of gas bubles agglomerated in Si matrix cavities are observed.Values of deorption activation energy are estimated - it is in the range 3-3.4 eV in the considered implantation energy range, larger than for lighter noble gases implanted into Si.

Słowa kluczowe

Keywords

Bibliografia

[1] Chernikov V.N., Ullmaier H., Zakharov A.P., Journal of Nucl. Mat. 694 (1998), 258 PRZEGLĄD ELEKTROTECHNICZNY, ISSN 0033-2097, R. 94 NR 7/2018 161
[2] Zibrov M., Gasparyan Yu., , Ryabtsev S., Pisarev A., Physics Procedia 83 (2015), 71
[3] Kaschny J.R., Fichtener P.F.P., Muecklich A., Nucl. Instrum. Meth. 583 (1998), B136
[4] Godey S., Sauvage T., Ntsoenzok E., Erramli H., Beaufort M.F., Barbot J.F., Leroy B., J. Appl. Phys. 87 (1999), 2158
[5] Bruel M., Aspar B, Charlet B., Maleville C., Poumeyrol T., A. Soubie, Auberton-Herve, A.J., Lamure J.M., T. Barge et al. 1995 IEEE International SOI Conference Proceedings p.178
[6] Kögler R., Peeva A., Lebedev A., Posselt M., Skorupa W., Oezelt G., Hutter H., Behar M., J. Appl. Phys. 94 (2003), 3834
[7] van Gorkum A.A., Kornelsen E.V., Vacuum 31 (1981), 89
[8] Atsumi H., Takemura Y., Konishi T., Tanabe T., Shikama T., Journal of Nuclear Materials 438 (2013) S963
[9] Alimov V.Kh., Tyburska-Püschel B., Lindig S., Hatano Y., Balden M., Roth J., Isobe K., Matsuyama M., Yamanishi T., J. of Nucl. Mater. 420 (2012), 519
[10] Porosnicu C., Anghel A., Sugiyama K., Krieger K., Roth J., Lungu C.P., Journal of Nuclear Materials 415 (2011), S713
[11] Pivac B., Milat O., Dubček P., Bernstorff S., Corni F., Nobili C., Tonini R. Phys. Stat. Sol. A 198 (2003), 29
[12] Morozov O., Zhurba V., Neklyudov I., Mats O., Rud A., Chernyak N., Progolaieva V. Nanoscale Res Lett. 10 (2015), 154
[13] Chang S., Lin T., Li T., Journal of Nanomaterials 2014, 690498 (2014)
[14] Godey S., Ntsoenzok E., Sauvage T., van Veen A., Labohm F., Beaufort M.F., Barbot J.F., Materials Science and Engineering B73 (2000), 54
[15] Oliviero E., David M.L., Beaufort M.F., Barbot J.F., van Veen A. Appl. Phys. Lett., 81 (2002), 4201
[16] Corni F., Calzolari G., Gambetta F., Nobili C., Tonini R., Zapparoli M., Materials Science and Engineering B71 (2000), 207
[17] Cerofolini G.F., Calzolari G., Corni F., Frabboni S., Nobili C., Ottaviani G., Tonini R., Phys. Rev. B 61 (2000), 10183
[18] Lau W.M., Bello I., Huang L. J., Feng X., Vos M., Mitchell I.V., J. Appl. Phys. 74(1993), 7105
[19] Hanada R., Saito S., Nagata S., Yamaguchi S., Shinozuka T., Fujioka I., Mat. Sci. Forum 196-201 (1995), 1375
[20] Drozdziel A., Wojtowicz A., Turek M., Pyszniak K., Maczka D., Slowinski B., Yushkevich Y.V., Zuk J. Acta Phys. Pol. A 125 (2014), 1400
[21] Turek M., Drozdziel A., A. Wójtowicz, J. Filiks, K. Pyszniak, D. Mączka, Y. Yuschkevich (przyjęte do druku w Acta Physica Polonica A)
[22] vom Felde A., Fink J., Müller-Heinzerling T., Pflüger J., B. Scheerer, Linker G., Phys. Rev. Lett. 53(1984), 922
[23] Faraci G., Pennisi A.R.,Terrasi A., Phys. Rev. B 38(1988), 13468
[24] Barbieri P. F., Landers R., and Marques F. C., Appl. Phys. Lett. 90 (2007), 164104
[25] Ntsoenzok E., Assaf H., Ruault M.O., Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 864 (2005), E7.3.1
[26] Herbig C., Ahlgren E.H., Schroeder U.A., Martınez-Galera A.J., Arman M.A., Kotakoski J., Knudsen J., Krasheninnikov A.V. and Michely T., Physical Review B 92 (2015), 085429
[27] Werner M., van den Berg J. A., Armour D. G., Carter G., Feudel T., Herden M., Bersani M., Giubertoni D., Ottaviano L., Bongiorno C., Mannino G., Bailey P., Noakes T. C. Q., Appl. Phys. Lett. 86 (2005), 151904
[28] Marques F.C., Barbieri P.F., Viana G.A., da Silva D.S., Applied Surface Science 275(2013), 156
[29] Ziegler J.F., Ziegler M.D., Biersack J.P., Nucl. Instr. Meth. B 268 (2010), 1818
[30] Turek M., Droździel A., Pyszniak K., Wójtowicz A., Mączka D., Yuschkevich Y., Vaganov Y., J. Żuk Acta Physica Polonica A 127 (2015), 849
[31] Blackburn R., Metallurgical Review 11 (1966), 159
[32] Redhead P.A., Vacuum 12 (1962), 203

Jeśli masz wykupiony/przyznany dostęp - zaloguj się. Skorzystaj z naszych propozycji zakupu!

Publikacja


e-Publikacja (format pdf) - nr 114680 "Termodesorpcja ksenonu im..." licencja: Osobista Produkt cyfrowy	10.00 zł

Zeszyt


PRZEGLĄD ELEKTROTECHNICZNY - e-zeszyt (pdf) 2018-7 licencja: Osobista Produkt cyfrowy	55.00 zł

Prenumerata

PRZEGLĄD ELEKTROTECHNICZNY - prenumerata cyfrowa
licencja: Osobista

Produkt cyfrowy
Nowość

762.00 zł

PRZEGLĄD ELEKTROTECHNICZNY - PAKIET prenumerata PLUS
licencja: Osobista

Szczegóły pakietu

Nazwa
PRZEGLĄD ELEKTROTECHNICZNY - PAKIET prenumerata PLUS (Prenumerata papierowa + dostęp do portalu sigma-not.pl + e-prenumerata)	1002.00 zł brutto 927.78 zł netto 74.22 zł VAT (stawka VAT 8%)

1002.00 zł

PRZEGLĄD ELEKTROTECHNICZNY - papierowa prenumerata roczna + wysyłka
licencja: Osobista

Szczegóły pakietu

Nazwa
PRZEGLĄD ELEKTROTECHNICZNY - papierowa prenumerata roczna	960.00 zł brutto 888.89 zł netto 71.11 zł VAT (stawka VAT 8%)
PRZEGLĄD ELEKTROTECHNICZNY - pakowanie i wysyłka	42.00 zł brutto 34.15 zł netto 7.85 zł VAT (stawka VAT 23%)

1002.00 zł

Zeszyt

2018-7

Twój Koszyk

Publikacja

Zeszyt

Prenumerata

Zeszyt

Czasopisma