Wyniki 1-7 spośród 7 dla zapytania: authorDesc:"ROMUALD STANKIEWICZ"

Modyfikowane włókna węglowe

Czytaj za darmo! »

Przedstawiono możliwości modyfikacji mikrostruktury włókien węglowych i chemicznej budowy ich powierzchni. Spośród metod chemicznej modyfikacji powierzchni omówiono procesy utleniania, sulfonowania i fosforylowania, a spośród metod fizykochemicznych - utlenianie elektrochemiczne, interkalację, obróbkę plazmową, nanoszenie cienkich warstw i wiskeryzację. Omówiono także fizykochemiczne wła[...]

Wpływ obróbki cieplnej włókien węglowych na ich budowę mikrokrystaliczną i trwałość termiczną

Czytaj za darmo! »

Przedstawiono wyniki badań wpływu obróbki cieplnej włókien węglowych, przeprowadzonej w temp. 2000°C, 2400°C i 2600°C, na ich budowę mikrokrystaliczną oraz trwałość termiczną w atmosferze powietrza. Do badań użyto włókien węglowych otrzymywanych na skalę przemysłową z paku naftowego. Budowę mikrokrystaliczną badanych włókien określano metodą dyfrakcji promieniowania rentgenowskiego, a trw[...]

Rozróżnianie centrów kwasowych i zasadowych na powierzchni modyfikowanego węgla aktywnego metodą pehametryczną

Czytaj za darmo! »

Zastosowano metodę automatycznego miareczkowania pehametrycznego zawiesin węgla aktywnego do charakteryzowania właściwości kwasowych i zasadowych jego powierzchni. Badany węgiel poddano obróbce utleniającej w celu wytworzenia kwasowych tlenowych grup funkcyjnych oraz obróbce cieplnej dla otrzymania grup zasadowych. Dzięki przedstawionej metodzie badawczej wykazano, że węgiel utleniony ma na [...]

Badanie reakcji rozkładu siarczku dibutylowego. Część I. Zastosowanie zaawansowanej techniki utleniania UV/H2O2


  Badano utlenianie siarczku dibutylowego (DBS) za pomocą UV i H2O2 przy pH 2-12. Wykazano, że zaawansowana technika utleniania przy łącznym zastosowaniu UV i H2O2 jest znacznie bardziej efektywna niż utlenianie z wykorzystaniem rozpuszczonego tlenu z powietrza w roztworze naświetlanym promieniowaniem UV i samego H2O2. Ustalono, że przy naświetlaniu roztworu promieniowaniem UV, ilość tlenu atmosferycznego rozpuszczonego w roztworze ma znaczny wpływ na szybkość rozkładu DBS. Stwierdzono, że promieniowanie UV powoduje wolny rozkład DBS w środowisku wodnym przez fotolizę H2O nawet przy braku nadtlenku wodoru lub tlenu rozpuszczonego w wodzie. Bu2S was oxidized with H2O2 optionally under UV irradn. at pH 2-12 in an H2O-Me2CO soln. to study the Bu2S decay. The H2O2 was more efficient than air O2 dissolved. The oxidn. of Bu2S under UV irradn. was the most efficient process. Utlenianie prostych alifatycznych siarczków rodnikami hydroksylowymi zachodzi wg złożonych mechanizmów reakcji. W pierwszym etapie rodnik OH przyłącza się do atomu siarki tworząc rodniki dialkilosulfenowe R2SOH. Przy niskich stężeniach siarczku (poniżej 10-4 M) rodnik R2SOH szybko (t1/2 < 1 μs) odszczepia cząsteczkę H2O tworząc RSR(-H) rodnik (k > 7.105 s-1). Rodnik ten powstaje również przy wyższych stężeniach siarczku, lecz wg innego mechanizmu reakcji. W tym przypadku rodnik R2SOH reaguje z drugą cząsteczką dialkilosiarczku R2S, tworząc krótkożyciowy rodnik złożony (R2S)2OH, który dysocjuje do (R2S)2 + i OH-. Powstający kompleks jonowy (R2S)2 + jest względnie stabilny i rozpada się do kationu cząsteczkowego R2S+. Jon ten w reakcji z rozpuszczalnikiem, jonami OH- i poprzez dwucząsteczkową reakcję z innym kationem R2S+ efektywnie odszczepia proton, tworząc rodnik RSR(-H). Końcowym produktem utleniania jest stabilny sulfotlenek dialkilowy1). Do badania kinetyki i mechanizmów reakcji rodnika OH z siarczkami organicznymi zastosowano techniki fot[...]

Badanie reakcji rozkładu siarczku dibutylowego. Część II. Utlenianie zaawansowaną techniką UV/O3


  Przedstawiono wyniki badań rozkładu DBS za pomocą zaawansowanej techniki utleniania UV/O3 w środowisku wodnym przy różnych stężeniach jonów wodorowych. Zaobserwowano maksymalną szybkość zaniku DBS w środowisku silnie zasadowym o pH 12, i nieco mniejszą w środowisku lekko kwaśnym przy pH 5. Najwolniej rozkład DBS zachodził w środowisku obojętnym i słabo zasadowym. Bu2S was oxidized with O3 in aq. soln. optionally under UV irradn. in acidic and strongly alk. media. Use of the UV irradn. resulted in improvement of the decomp. efficiency. Ozon jest silnym utleniaczem, a jego wykorzystanie razem z promieniowaniem UV zalicza się do zaawansowanych technik utleniania. Ozonowanie z promieniowaniem UV zastosowano do usuwania 2-naftalenosulfonianu (2-NS) z roztworów wodnych1). Kwasy naftalenosulfonowe, których pochodną jest 2-NS, są półproduktami w przemyśle tekstylnym i barwników. 2-NS i jego pochodne zostały wykryte w rzekach i w ściekach z garbarni, stanowiąc zagrożenie dla środowiska naturalnego. Badano wpływ stężenia ozonu i promieniowania UV na utlenianie 2-NS w środowisku wodnym. Stężenia 2-NS i powstających siarczanów mierzono okresowo, a wartości pH i potencjał redoks mierzono w trakcie eksperymentu w sposób ciągły. Przebieg reakcji ozonowania jest związany z wydajnością rozkładu ozonu w środowisku reakcji. W pracy2) wykazano, że kwantowa wydajność rozkładu ozonu w wodnych roztworach trzeciorzędowego butanolu, o stężeniu 0,26 mmol/L, wynosiła Φ=0,64 i rosła wraz ze zmniejszaniem się stężenia butanolu (Φ=1,5 przy 10-5 M i pH 2). Rozkład butanolu był inicjowany poprzez odszczepienie atomu wodoru przez rodniki OH, otrzymywane w reakcji tlenu atomowego, generowanego fotolitycznie z wody jako rozpuszczalnika, o wydajności kwantowej Φ(OH) = 0,1. W układzie tym wolne rodniki organiczne i rodniki nadtlenkowe reagowały z ozonem. Układ UV/O3 stosowano do rozkładu 2-merkaptotiazoliny (2-MT), stanowiącej zanieczyszcz[...]

Badanie reakcji rozkładu siarczku dibutylowego. Część III. Utlenianie zaawansowaną techniką UV/O3/H2O2


  Przedstawiono wyniki badań szybkości rozkładu siarczku dibutylowego (DBS) w układzie zaawansowanej techniki utleniania UV/O3/H2O2 w środowisku wodnym dla różnych wartości stężenia jonów wodorowych. Wykazano, że jednoczesne zastosowanie promieniowania UV, ozonu i nadtlenku wodoru do utleniania DBS nie ma charakteru addytywnego, a wykorzystanie utleniaczy nie jest optymalne. Przedstawiono propozycje podwójnych układów, w których utleniacze i UV są znacznie efektywniej wykorzystywane niż w układzie potrójnym. Zestawiono szybkości utleniania DBS za pomocą pojedynczych utleniaczy i w układach podwójnych oraz w układzie potrójnym. Szybkość utleniania DBS ozonem w roztworze nadtlenku wodoru (O3/H2O2) jest najwyższa ze wszystkich przebadanych układów przy różnych pH roztworów. Bu2S was oxidized with O3 and H2O2 in aq. soln. under UV irradn. at pH 2-12. Use of the irradn. in the triple system did not result in any improvement of the reaction course. Farmaceutyki w postaci oryginalnej lub w postaci metabolitów, odprowadzane do ścieków stwarzają zagrożenie dla środowiska naturalnego. Nie jest wykluczony ich toksyczny wpływ na algi i bezkręgowce nawet w stężeniach mikro- i nanogramowych. Ponadto niektóre farmaceutyki oddziałują na gruczoły wydzielania wewnętrznego organizmów żywych (np. ryb) i dlatego w trakcie ozonowania ścieków należy dążyć do ich zniszczenia. Przykładowe badania destrukcji wybranego farmaceutyka, jakim jest paracetamol (N-acetylo-4-aminofenol), zostały wykonane w pracy1). Związek ten utleniano metodą ozonowania i fotolizy przy udziale H2O2. Obydwa układy utleniające są w stanie zniszczyć pierścień aromatyczny paracetamolu z częściową konwersją zawartego w nim węgla do ditlenku węgla. Dla przyjętych warunków utleniania uzyskano stopień mineralizacji do 30% dla ozonowania i 40% dla fotolizy z udziałem H2O2. Inną grupę zanieczyszczeń środowiska naturalnego stanowią ścieki z garbarni, których unieszkodliwianie zosta[...]

 Strona 1