Wyniki 1-5 spośród 5 dla zapytania: authorDesc:"MARIA JURZECKA-SZYMACHA"

Gradientowe warstwy a-SiNx:H osadzane plazmochemicznie w układzie RF CVD

Czytaj za darmo! »

Warstwy amorficznego krzemu (a-Si:H), amorficznego azotku krzemu (a-SiNx:H) oraz układy warstwowe (a-Si:H - a-SiNx:H) osadzono na podłożach Si (001) z zastosowaniem metody PE CVD, w rozwiązaniu RF CVD. W ośmiominutowym procesie syntezy uzyskano warstwy o grubościach rzędu 550÷750 nm, zależnie od typu. Jako prekursorów gazowych użyto SiH4, N2 i H2. Skład chemiczny warstw określono za pomocą sp[...]

Reakcje prowadzące do wzrostu warstw a-SiNx:H w układzie PE CVD

Czytaj za darmo! »

Przedstawiono model wzrostu warstw azotku krzemu a-SiNx:H na drodze chemicznego osadzania z fazy gazowej. Model uwzględnia przebieg reakcji chemicznych w fazie gazowej i reakcji heterogenicznych na powierzchni w roli katalizatora. W warunkach plazmy (układ PE CVD), reakcje heterogeniczne przebiegają głównie z udziałem aktywnych rodników, a zasadniczy wpływ na ich przebieg ma wodór. Uzasadnion[...]

Synergiczne układy warstwowe: azotek krzemu - warstwa przejściowa na multikrystalicznym krzemie

Czytaj za darmo! »

Amorficzny azotek krzemu a-SiNx:H nale.y do najbardziej obiecuj.cych materia.ow warstwowych o szczegolnym znaczeniu dla fotowoltaiki. Stosowany w postaci warstwy na krzemowych ogniwach s.onecznych pe.ni rol. pasywnej pow.oki antyrefleksyjnej, ktora jednocze.nie zabezpiecza powierzchni. ogniwa przed korozj. oraz przed dyfuzj. obcych atomow i jonow (np. tlenu). Takie warstwy stanowi. .rod.o wodoru pasywuj.cego defekty pod.o.a (przede wszystkim defekty powierzchniowe na granicach mi.dzyziarnowych polikrystalicznego krzemu). Na efekt wzrostu synergizmu w.a.ciwo.ci w uk.adzie warstwa-pod.o.e znacz.cy wp.yw maj.: adhezja warstwy do pod.o.a i rozk.ad napr..e. w.asnych. Osi.gni.cie zamierzonego efektu jest uwarunkowane rownie. parametrami samej warstwy, takimi jak: grubo.., budowa atomowa i g.sto.. warstwy, a tak.e wzgl.dna zawarto.. pierwiastkow Si, N i H. W literaturze przedmiotu mo.na znale.. informacje na temat roli sk.adu chemicznego i budowy warstw a-SiNx:H, jako czynnikow decyduj.cych o ich w.a.ciwo.ciach u.ytkowych i mo.liwych zastosowaniach [1€11]. Na przyk.ad: .. wraz ze wzrostem zawarto.ci krzemu w warstwie spada jej opor elektryczny, .. napr..enia w warstwie mog. by. modyfikowane przez dobor wzgl.dnej zawarto.ci azotu, .. zawarto.. wodoru jest wi.ksza w warstwach osadzanych w wy.szej temperaturze, .. optyczna transmisja warstwy spada ze wzrostem zawarto.ci Si. Warto.. przerwy energetycznej maleje od 5,1 eV dla warstwy o sk.adzie bliskim stechiometrycznemu [N]/[Si] . 1,3 do 2,05 eV dla warstw bogatych w krzem. Wobec tych zale.no.ci istotne znaczenie ma fakt, .e sk.ad chemiczny warstwy (zawarto.. Si, N i H) i jej budowa zale.. od warunkow, w ktorych zosta.a ona otrzymana, to jest od metody formowania warstwy i parametrow procesu. U.ytkowe w.a.ciwo.ci azotku krzemu pozostaj. w .cis.ej relacji do aspektow technologicznych. Jedno z najwa.niejszych miejsc w.rod metod otrzymywania warstw a-SiNx:H zajmuj. technolo[...]

Warstwy a-SiNx:H o różnej zawartości azotu osadzane w układzie PECVD

Czytaj za darmo! »

Technologie warstwowe wychodzą obecnie naprzeciw rosnącemu zapotrzebowaniu na materiały nowej generacji i tym samym stanowią kluczowy obszar inżynierii powierzchni i inżynierii materiałowej [1÷4]. Wykorzystuje się je w celach modyfikacji właściwości powierzchni różnego typu materiałów (ceramicznych, metalicznych, polimerów organicznych), a także w otrzymywaniu materiałów funkcyjnych, np. dla elektroniki czy fotowoltaiki. Zastosowanie znajdują zarówno cienkie warstwy o grubości rzędu kilku warstw atomowych, jak i warstwy, których grubość sięga kilku, kilkunastu mikrometrów, najczęściej uzyskiwane sposobem chemicznego lub fizycznego osadzania z fazy gazowej. Warstwy niestechiometrycznego azotku krzemu a-SiNx:H, które są przedmiotem badań opisanych w tej pracy, mają szereg właściwości, stawiających je w grupie materiałów o istotnym znaczeniu dla rozwoju fotowoltaiki [5÷15]. Stanowią pasywną powłokę antyrefleksyjną, która jednocześnie zabezpiecza powierzchnię ogniwa słonecznego przed korozją oraz przed dyfuzją obcych atomów i jonów (np. tlenu). Jednocześnie warstwy takie są źródłem wodoru pasywującego defekty podłoża (na przykład defekty powierzchniowe granic międzyziarnowych polikrystalicznego krzemu). Warstwa a-SiNx:H, stosowana jako powłoka zewnętrzna, zabezpiecza amorficzny krzem przed dyfuzją obcych atomów (np. tlenu) z atmosfery. Jako warstwa wewnętrzna stanowi barierę dla dyfuzji atomów/jonów między podłożem i krzemem (np. w układach scalonych). Celem pracy było otrzymanie w procesie chemicznego osadzania z fazy gazowej, prowadzonym ze wspomaganiem plazmy (PECVD - Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), serii amorficznych warstw a-SiNx:H o różnej zawartości azotu. W literaturze przedmiotu można znaleźć szereg doniesień odnośnie do roli składu chemicznego i budowy warstw jako czynników decydujących o właściwościach użytkowych i potencjalnych zastosowaniach. Znana jest zależność pomiędzy współczynnikiem załamania warstwy[...]

 Strona 1