Wyniki 1-2 spośród 2 dla zapytania: authorDesc:"Andrzej Kosiński"

Wpływ zawartości fluoru na właściwości powłok osadzanych w wyładowaniu barierowym pod ciśnieniem atmosferycznym

Czytaj za darmo! »

Przedstawiono wyniki badań dotyczące wpływu dodatku fluoru, wprowadzonego z oktadekafluorodekahydronaftalenu (ODFDHNaf) jako prekursora, na skład i właściwości powłok osadzonych, w wyładowaniu DBD (dielectric barrier discharge) pod ciśnieniem atmosferycznym. Stwierdzono, że obecność dużej ilości fluoru w powłoce (33—48%) powoduje 2—3- krotny wzrost współczynnika tarcia w stosunku do współczynnika tarcia podłoża krzemowego (0,14). Małą wartość współczynnika tarcia (0,06) uzyskano dla zawartości fluoru w powłoce równej 0,4%. Nanocryst. Si support was covered with F-C or Si-C-layers produced by plasma-induced chem. vapor deposition of octadecafluorodecahydronaphtalene at 25—150°C in Ar in presence of O2 (2.2—16% by vol.). The deposited layers were studied for chem. compn. and friction coeff. The F content was 33—48%. The friction coeff. (0.27—0.39) was much higher than that for the Si support (0.14). Unexpectedly, very low friction coeff. (0.06) was obsd., when the O2 content in the gas mixt. was 4.4% (F content in the layer 0.4%). W ostatnich latach obserwuje się istotny wzrost zainteresowania plazmową modyfikacją powierzchni przez trawienie lub osadzanie cienkich powłok. Procesy te stanowią podstawę do wytwarzania wielu dóbr konsumpcyjnych i często używane narzędzie inżynierii chemicznej. Zainteresowanie tymi metodami wynika z wielu przesłanek, z których najistotnieszymi wydają się być ciągle rosnąca rola powierzchni w porównaniu z wnętrzem wyrobu, ciągłe zapotrzebowanie na nowe cechy użytkowe materiałów, oraz wyczerpywanie się możliwości tradycyjnych technologii. W związku z tym powstała nowa dziedzina technologii i urządzeń służących do plazmowego czyszczenia powierzchni fazy stałej przez trawienie oraz osadzania [...]

 Strona 1