Wyniki 1-1 spośród 1 dla zapytania: authorDesc:"Artur Wiatrowski "

Próżniowe otrzymywanie cienkich warstw na wielkogabarytowych, szklanych podłożach. Część 1 - magnetron prostokątny WMP100×2500


  Powierzchnie wielkogabarytowych tafli szklanych, pokrywanych cienkimi warstwami w przemysłowych procesach próżniowych (np. na potrzeby architektury budowlanej), mogą mieć wielkość rzędu kilkunastu metrów kwadratowych. Jedynym sposobem, który może zapewnić równomierne, wydajne i stabilne osadzanie na nich cienkich warstw jest metoda próżniowego rozpylania. Magnetronowe układy rozpylające są najszerzej stosowane do tych celów. Zapewniają one powtarzalne wytwarzanie par materiału wyjściowego nad pokrywanymi powierzchniami. Powłoki mogą być nanoszone w postaci warstw jedno- i wieloskładnikowych, stopów, mieszanin, związków chemicznych, wielowarstw i ostatnio coraz szerzej wdrażanych tzw. nanowymiarowych struktur cienkowarstwowych. Tak szerokie możliwości otrzymywania warstw pozwalają na osadzanie warstw o określonych właściwościach fizykochemicznych (optycznych, mechanicznych, dekoracyjnych). Wśród nich można wyróżnić tzw. warstwy funkcjonalne (low-e layers) (np. Ag); o dużym współczynniku odbicia (np. Cr, Ti...); absorpcyjne (np. CrN, TiN...); dielektryczne (np. Al2O3, SiO2, TiO2....) i inne. Podłoża pokrywane za pomocą magnetronowych systemów rozpylających są stosowane na potrzeby architektury budowlanej, optyki, fotowoltaiki i wszędzie tam, gdzie korzystne jest osadzanie warstw na płaskich wielkowymiarowych podłożach. Układy magnetronowe do nanoszenia warstw przy obniżonym ciśnieniu są szeroko stosowane zarówno w wielu dziedzinach przemysłu, jak i w laboratoriach naukowo-badawczych. Zasada działania tych systemów polega na bombardowaniu jonami gazu szlachetnego (np. Ar) materiału rozpylanego (targetu), mocowanego na ujemnie spolaryzowanej katodzie. Obecnie, w większości wypadków stosuje się impulsowe (unipolarne lub bipolarne) zasilanie ze średnią częstotliwością. Taki sposób zasilania magnetronu gwarantuje stabilność procesów rozpylania nawet wówczas, gdy na materiale rozpylanym tworzą się dielektryczne aglomeraty (powstają [...]

 Strona 1