Wyniki 1-3 spośród 3 dla zapytania: authorDesc:"JANUSZ MARKOWSKI"

Tlenki cyrkonu otrzymywane w procesie reaktywnego rozpylania magnetronowego

Czytaj za darmo! »

Tlenki należą do najbardziej pospolitych form występowania związków na Ziemi i obecnie są najbardziej intensywnie badane spośród wszystkich ciał stałych. Tlenek cyrkonu to doskonały materiał na przeźroczyste twarde pokrycia mechaniczne, ochronne pokrycia chemiczne, warstwy izolacyjne w mikroelektronice, a także filtry optyczne.W zależności od temperatury może występować w trzech fazach polimorficznych: jednoskośnej (temperatura pokojowa), tetragonalnej (temperatura przemiany 1170°C) i kubicznej (temperatura przemiany 2370°C). Topi się w temperaturze 2680°C [1]. W celu uzyskania poprawy właściwości mechanicznych, fazy wysokotemperaturowe mogą być stabilizowane w temperaturze pokojowej przez domieszkowanie czystego tlenku cyrkonu takimi tlenkami kubicznymi jak: CaO, MgO lub Y2O3[...]

Analiza wielkości powierzchni emisyjnych polowych emiterów elektronów z warstw azotków metali przejściowych: TiN, VN i ZrN

Czytaj za darmo! »

Istotnym parametrem charakteryzującym właściwości emiterów polowych jest powierzchnia emisyjna. Wyznacza się ją z wyników pomiarów charakterystyk emisyjnych I = f(E) bądź I = f(U), skorelowanych z teoretycznym równaniem Fowlera- Nordheima: gdzie: I - oznacza prąd w µA, n jest liczbą emiterów o powierzchni A [µm2], E0 jest polem elektrycznym w przestrzeni anoda-katoda w V/µm i praca wyjścia Ф w [eV].Współczynnik kształtu elektrod (wzmocnienia pola elektrycznego) β jest miarą stosunku mikroskopowego pola elektrycznego E w miejscu emisji w stosunku do makroskopowego pola kondensatora płaskiego: β = E/E0 o elektrodach oddalonych o odległość równą odległości emiter-anoda. Po odpowiednich przekształceniach otrzymuje się w uproszczeniu: Wykres zale[...]

Właściwości elektryczne cienkich warstw ZrO2 otrzymywanych metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego

Czytaj za darmo! »

Cienkie warstwy ZrO2 otrzymywano w procesie reaktywnego rozpylania magnetronowego cyrkonu o czystości 99,99%, w atmosferze roboczej złożonej z mieszaniny (Ar + O2). Wykorzystywano wyrzutnię magnetronową WMK-50 (WEMiF Wrocław) z targetem o średnicy 50 mm i zasilaczem impulsowym (Dora Power System) [1]. Jako podłoża stosowano szkło typu Corning 7059. Przed procesem nanoszenia warstw podłoża nagrzewano grzejnikiem radiacyjnym do temperatury 100°C. W trakcie procesu, temperatury nie kontrolowano. Odległość podłoży od powierzchni targetu wynosiła 100 mm. Stosując mieszaninę (Ar + 12,5%O2) jako gaz roboczy o ciśnieniu 4 Pa wytworzono dwie serie struktur kondensatorowych oznaczonych odpowiednio jako A i B (tab. 1). W tabeli 1a przedstawiono także zdjęcie badanych struktur serii A, w[...]

 Strona 1