Wyniki 1-7 spośród 7 dla zapytania: authorDesc:"MAŁGORZATA KUJAWIŃSKA"

System aktywnego zintegrowanego czujnika siatkowego do pomiaru mikropól odkształceń i naprężeń

Czytaj za darmo! »

Mikrotechnologia przeżywająca swój rozkwit umożliwiła wytwarzanie elementów w skali mikro, których funkcjonalność lub konstrukcja wymaga pomiarów bezinwazyjnych, a skala, w przeciwieństwie do skali nano, umożliwia stosowanie polowych optycznych metod pomiarowych. Prezentowane urządzenie jest czujnikiem bazującym na interferometrii siatkowej [1, 2] powszechnie stosowanej w skali makro, pozwal[...]

System aktywnego zintegrowanego czujnika siatkowego do pomiaru mikropól odkształceń i naprężeń

Czytaj za darmo! »

Mikrotechnologia przeżywająca swój rozkwit umożliwiła wytwarzanie elementów w skali mikro, których funkcjonalność lub konstrukcja wymaga pomiarów bezinwazyjnych, a skala, w przeciwieństwie do skali nano, umożliwia stosowanie polowych optycznych metod pomiarowych. Prezentowane urządzenie jest czujnikiem bazującym na interferometrii siatkowej [1, 2] powszechnie stosowanej w skali makro, pozwal[...]

Optoelektroniczna rekonstrukcja hologramów cyfrowych

Czytaj za darmo! »

Holografia jest techniką umożliwiającą rejestrację i rekonstrukcję zespolonego pola elektromagnetycznego. Została ona zaproponowana przez polskiego fizyka M.Wolfkego w latach 20. XX wieku [1], jednak pełen opis metody zapisu holograficznego oraz pierwsze doświadczenia są autorstwa fizyka węgierskiego pochodzenia D. Gabora [2]. Holografia optyczna polega na rejestracji w postaci hologramu wyniku interferencji pomiędzy zespoloną wiązką przedmiotową i wiązką odniesienia. Rekonstrukcja obrazu obiektu dokonywana jest przez oświetlenie hologramu wiązką rekonstruującą, która ulega dyfrakcji na jego strukturze i umożliwia odtworzenie fali przedmiotowej. Przez wiele lat hologramy rejestrowano na nośnikach analogowych, a przede wszystkim na materiałach srebrowych, które wymagały obróbki[...]

Zminiaturyzowany ekstensometr siatkowy

Czytaj za darmo! »

W artykule przedstawiono koncepcję, modelowanie, wstępne badania oraz konstrukcję niskonakładowego zminiaturyzowanego ekstensometru siatkowego. Urządzenie przeznaczone jest do pomiaru mikropól przemieszczeń i odkształceń w dużych konstrukcjach inżynierskich. Czujnik bazuje na interferometrii siatkowej wg koncepcji R. Czarnka, w przypadku której wymagana jest integracja siatki dyfrakcyjnej na powierzchni badanego elementu. Uzyskanie niskonakładowego urządzenia możliwe jest dzięki replikacji głowicy pomiarowej, będącej monolitycznym blokiem generującym i prowadzącym wiązki oświetlające obiekt. Abstract. In the paper, the concept, numerical modeling, preliminary experimental data and the construction of low-cost miniaturized grating extensometer are presented. The device is designed to measure small fields of displacements and strains in large civil structures. The sensor is based on grating interferometry according to R. Czarnek's concept, in case of which the integration of diffraction grating on examined surface is required. Fabrication of low-cost sensors is provided by means of replication of the monolithic measurement head in PMMA. (Miniaturized grating extensometer). Słowa kluczowe: interferometr siatkowy, modelowanie mikrosystemów, mikrotechnologie, wytłaczanie na gorąco, optyczne elementy polimerowe. Keywords: grating interferometer, optical microsystems modeling, microtechnologies, hot-embossing, optical polymeric structures. Wstęp Istnieje szereg narzędzi pozwalających na pomiar przemieszczeń w płaszczyźnie oraz odkształceń. Dotychczas najczęściej stosowanymi są opornościowe ekstensometry [1] pozwalające na pomiar punktowy. Charakteryzują się one liniową charakterystyką i stabilnymi właściwościami w szerokim zakresie temperatur. Duże konstrukcje inżynierskie najczęściej monitorowane są z wykorzystaniem rozproszonych czujników światłowodowych [2]. W przypadkach, kiedy punktowy pomiar nie daje wystarczającej informacji o lokaln[...]

Ocena odkształceń konstrukcji murowych z wykorzystaniem metod optycznych


  Badanie murów na ściskanie przeprowadza się w celu określenia charakterystycznej i średniej wytrzymałości na ściskanie. Właściwości te wraz z wytrzymałością zaprawy wykorzystywane są do wyznaczenia współczynnika doświadczalnego K potrzebnego do obliczania nośności ścian murowanych. W badaniach wyznacza się również moduł sprężystości. Wytrzymałość muru na ściskanie określa się na podstawie wytrzymałościmurowych elementów próbnych obciążanych osiowo w kierunku prostopadłym do spoin wspornych aż do zniszczenia. Murki próbne mogą być wykonane z elementów murowych: ● ceramicznychwgPN-EN771-1:2006 Wymagania dotyczące elementówmurowych. Część 1: Elementy murowe ceramiczne; ● silikatowych wg PN-EN 771-2:2006 Wymagania dotyczące elementówmurowych. Część 2: Elementymurowe silikatowe; ● z betonu kruszywowego zwykłego i lekkiego wg PN-EN 771-3:2005 Wymagania dotyczące elementów murowych. Część 3: Elementymurowe z betonu kruszywowego (z kruszywami zwykłymi i lekkimi); ● z autoklawizowanego betonu komórkowego wg PN-EN 771-4:2004 Wymagania dotyczące elementówmurowych. Część 4:Elementymurowe z autoklawizowanego betonu komórkowego; ● z kamienia sztucznego wg PN-[...]

Badania rozkładu współczynnika załamania polimerowych struktur mikrooptycznych za pomocą systemu tomografii interferencyjnej

Czytaj za darmo! »

W artykule przedstawione zostały wyniki pomiarów zintegrowanego dwuwymiarowego rozkładu współczynnika załamania (projekcji) elementów optycznych wykonanych za pomocą niskonakładowych technologii wytwarzania. Pomiar polega na analizie rozkładu fazy wiązki światła przechodzacej przez badaną próbkę. Do wyznaczenia rozkładu współczynnika załamania zastosowany został dedykowany algorytm kompensujący [...]

SMARTIEHS - interferencyjne stanowisko do równoległych pomiarów MEMS i MEOMS


  Kontrola jakości oraz charakteryzacja parametrów mechanicznych stanowi ograniczenie możliwości produkcyjnych mikrosystemów, zwłaszcza w przypadku wymogów stuprocentowej kontroli. Głównym wyzwaniem jest połączenie wymogów procesów technologicznych produkcji masowej oraz używanych najczęściej urządzeń testujących coraz częściej będących składowymi łańcucha produkcyjnego. Jednym ze sposobów zwiększenia tempa produkcji i przepustowości stanowisk pomiarowych jest stosowanie urządzeń wielofunkcyjnych, badających kilka parametrów w jednym cyklu pomiarowym, oraz pomiary równoległe kilkunastu obiektów za pomocą stanowisk wielokanałowych. W ramach europejskiego projektu "SMART InspEction system for High Speed and multifunctional testing of MEMS and MOEMS" (SMARTIEHS) opracowywany jest system do szybkiego, efektywnego testowania wielu elementów MEMS jednocześnie [1, 2]. Realizacja projektu zakłada zastosowanie dwóch typów interferometrów do wielofunkcyjnych badań w czasie produkcji pozwalających z jednej strony na stukrotne zmniejszenie czasu trwania pomiaru, a z drugiej strony na pełną (100%) kontrolę parametrów i funkcjonalności wszystkich obiektów w obrębie podłoża z wykorzystaniem optycznych metod pomiarowych. Koncepcja stanowiska pomiarowego W konstruowanym stanowisku pomiary równoległe są realizowane poprzez wymienne głowice optyczne zawierające macierze interferometrów. Rozstaw interferometrów jest[...]

 Strona 1